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管式爐的分類
管式爐根據(jù)用途可以分很多種類,比如:真空管式爐,氣氛管式爐,高溫迷你管式爐,多溫區(qū)管式爐,開啟式管式爐,立式管式爐,傾斜旋轉(zhuǎn)管式爐,滑道式管式爐,高溫高壓管式爐,RTP紅外燈管管式爐,多工位管式爐、雙管管式爐等等。這些管式爐主要應(yīng)用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用。具有安全可靠、操作簡(jiǎn)單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。
這些常用管式爐的用途和特點(diǎn)如下:
三聚氰胺管式爐
用途:CVD工藝,如碳納米管的研制,三聚氰胺、尿素等化學(xué)實(shí)驗(yàn)的燒結(jié)分析,晶體硅基板鍍膜。
特點(diǎn):抗氧化、耐腐蝕、升溫快;智能PID30段控溫,控溫精度高。
真空管式氣氛爐
用途:粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、真空退火、以及高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜。
特點(diǎn):采用PID方式調(diào)節(jié),可設(shè)置30段升降溫程序,爐管下方配有支架,有效防止?fàn)t管兩端高溫變形斷裂。
立式管式氣氛爐
用途:針對(duì)粉末表面沉積的CVD實(shí)驗(yàn),適合薄膜生長(zhǎng)、電極測(cè)試、氧化物晶體生長(zhǎng)、快速退火等實(shí)驗(yàn)。
特點(diǎn):爐體垂直安裝在可移動(dòng)支架上,四面加熱,溫場(chǎng)更均勻,流化床設(shè)計(jì),反應(yīng)氣體和均勻地通過(guò)反應(yīng)區(qū)。
高溫高壓雙管管式爐
用途:適用于實(shí)驗(yàn)室需要高溫高壓環(huán)境并需準(zhǔn)確控制高溫高壓條件的各項(xiàng)科學(xué)研究,比如超導(dǎo)材料及介電材料的探索研究。
特點(diǎn):保溫性能好,耐用,拉伸強(qiáng)度高,無(wú)雜球,純度高。
滑動(dòng)式管式快速退火爐
用途:低成本進(jìn)行快速熱處理。
特點(diǎn):爐底安裝一對(duì)滑軌,可用手動(dòng)滑動(dòng),可以快速加熱和降溫。
多工位管式電阻爐
用途:高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、質(zhì)量檢測(cè)用的理想產(chǎn)品。
特點(diǎn):體積小、重量輕,傾斜旋轉(zhuǎn),使物料充分受熱。
可傾斜旋轉(zhuǎn)管式加熱爐
用途:主要運(yùn)用于粉末冶金,陶瓷磨料,耐火材料,鋰電正負(fù)極材料,稀土納米新能源等行業(yè)測(cè)定材料。
特點(diǎn):具有燒成周期短、勞動(dòng)強(qiáng)度低等優(yōu)點(diǎn)。
RTP紅外燈管加熱管式爐
用途:半導(dǎo)體或太陽(yáng)能電池基片的退火。
特點(diǎn):通過(guò)SCR功率控制進(jìn)行PID自動(dòng)控制。
三溫區(qū)管式氣氛爐
用途:高溫氣氛燒結(jié)、鍍膜、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火用的理想產(chǎn)品。
特點(diǎn):雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu);高密度硅碳棒真空擠壓成型,三個(gè)溫區(qū)獨(dú)立控溫,高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型;30段可編程智能控制(可外接遠(yuǎn)程控制)。
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