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立式管式爐爐體垂直安裝在支撐架上,開啟式爐體結(jié)構(gòu)方便取放爐管,采用獨(dú)特的設(shè)計能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對樣品快速升降溫,此款管式爐可以四面加熱,溫場更加均勻,立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢,配合真空系統(tǒng)和氣路系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)立式CVD工藝,可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)?、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體。立式管式爐主要適用于碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理、薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實(shí)驗(yàn)。
主要特點(diǎn):
1、開啟式結(jié)構(gòu),方便取放爐管;
2、預(yù)留了真空、氣路快速接口,可配合真空混氣系統(tǒng)使用;
3、加熱元件圓周式布置,加熱更加均勻;
4、可通過浮子流量計或質(zhì)子流量計控制氣體的流速;
5、超溫報警井?dāng)嚯娬{(diào)電保護(hù),操作安全可靠。
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