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產(chǎn)品型號(hào):KJ-PECVD-1200-50*300-F3
主要用途:該P(yáng)ECVD管式爐度范圍寬;濺射區(qū)域長(zhǎng);整管可調(diào);精致小巧,性價(jià)比高,可實(shí)現(xiàn)快速升降溫,是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇,也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
PECVD比普通CVD具有更高的化學(xué)氣相沉積速率、更好的均勻性、一致性和穩(wěn)定性
PECVD對(duì)于化學(xué)氣相沉積需要比普通CVD更低的溫度
具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等優(yōu)點(diǎn)
產(chǎn)品名稱 | 1200℃PECVD系統(tǒng) | |
產(chǎn)品型號(hào) | KJ-PECVD-1200-50*300-F3 | |
加熱系統(tǒng) | 顯示 | LED |
最高溫度 | 1200℃ | |
長(zhǎng)期工作溫度 | ≤1100℃ | |
升溫速率 | 0~10℃/min | |
溫區(qū)長(zhǎng)度 | 300mm(其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制) | |
加熱元件 | 硅鉬棒 | |
熱電偶 | N型 | |
溫度均勻性 | ±1℃ | |
爐管尺寸 | 直徑60 x 長(zhǎng)度1200mm(其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制) | |
材質(zhì):氧化鋁 | ||
溫度控制 | 通過(guò)可控硅功率控制進(jìn)行PID自動(dòng)控制 | |
加熱過(guò)程 | 30步可編程 | |
最大工作壓力 | 0.02MPa | |
真空系統(tǒng) | 旋片泵 | 冷態(tài)極限真空10Pa |
真空計(jì) | 數(shù)顯真空計(jì) | |
真空法蘭 | 帶閥門和針頭的不銹鋼真空法蘭 | |
質(zhì)量流量計(jì) | 流量范圍 | CO2(流量范圍:0-200 sccm CH4(流量范圍:0-200 sccm) N2 流量范圍(流量范圍:0-200 sccm) |
等離子射頻發(fā)生器 | 輸出功率:0 -300W可調(diào),±1%穩(wěn)定性 射頻頻率:13.56 MHz ±0.005% 穩(wěn)定性 |
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河南鴻爐機(jī)械有限公司是一家專業(yè)從事電爐產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的高新技術(shù)企業(yè)。我公司產(chǎn)品具有升溫快、節(jié)能、溫控精度高、保溫性能好、微電腦控制、可編程全自動(dòng)升溫降溫、爐壁溫度接近室溫、使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn);產(chǎn)品型號(hào)達(dá)到上百種,并可根據(jù)客戶需求定制各式爐型,以滿足高校、科研院所和工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、氣氛還原和質(zhì)量檢測(cè)之用,廣泛應(yīng)用于陶瓷、化工、電子、冶金、新材料開發(fā)、機(jī)械、耐火材料、建材、特種材料等領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn),受到廣大新老用戶的一致好評(píng)。
主要產(chǎn)品有箱式馬弗爐、管式電阻爐、真空爐、氣氛爐、坩堝爐、CVD系統(tǒng)、牙科爐、升降爐、軌道爐、臺(tái)車爐、退火爐、升降爐、微波燒結(jié)爐、烤瓷爐等標(biāo)準(zhǔn)及非標(biāo)實(shí)驗(yàn)電爐和工業(yè)電爐,并提供各類電爐配件、加熱元件及耐火材料。
鴻爐鄭重承諾:每臺(tái)電爐出廠前均經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的質(zhì)量檢測(cè)以及高溫測(cè)試,為客戶提供放心可靠的產(chǎn)品?。?!
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