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產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S
主要用途:高溫真空CVD設備是一種特殊的高真空CVD系統(tǒng),廣泛應用于半導體工業(yè)中沉積薄膜材料,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品。
KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成 ,最高溫度可以達到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計或浮子流量計,混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合,可以對多種氣體進行準確的混氣,然后導入到管式爐內(nèi)部。爐管兩端安裝真空法蘭,可以通過選配真空泵組來實現(xiàn)更高的真空度。爐底安裝一對滑軌,可用手動滑動。為取得最快加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然后移動爐子到樣品位置。為獲得最快冷卻,可在樣品加熱后移動爐子到另一端,是低成本快速熱處理的理想爐子。
產(chǎn)品優(yōu)勢
整個爐體采用雙層內(nèi)膽式結構,中間有氣隙隔離,即使爐膛溫度很高,爐體表面仍然可以安全觸摸無滾燙感覺
重量輕、升溫速度快、節(jié)能、省時、耐高溫、耐腐蝕、保溫性好,能滿足何種快速燒結的要求
操作簡便,控溫準確、可靠、安全多段可編程控制,可以簡化復雜的試驗過程,真正實現(xiàn)自動控制和運行
結構 | 采用雙層殼體結構,并帶有風冷,用于江堤殼體表面溫度 | |
加熱元件 | 電阻絲 | |
工作溫度 | ≤1100°C | |
最高溫度 | 1200°C | |
最大升溫速率 | 建議10°C/min | |
加熱區(qū)長度 | 400mm (其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制) | |
溫控系統(tǒng) | 一個精密溫度控制器 PID方式控制,通過可控硅 SCR可設置30段升降溫程序。 | |
控溫精度 | +/-1°C | |
爐管材質(zhì)和尺寸 | 石英管 內(nèi)徑: 72mm x 外徑: 80 mm x 長度:1000 mm (其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制) |
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密封法蘭 | 兩個不銹鋼密封法蘭,法蘭上已經(jīng)安裝數(shù)字式真空顯示計,和閥門通過機械泵真空壓力可以達到5x10-2 torr,泄漏率最大6 mtorr/min | |
真空泵 | 真空泵:一個雙旋片式機械泵安裝在移動架內(nèi)通過此機械泵真空度可以達到 5x10^-2 torr | |
氣體流量計 | 4個浮子流量計,可同時混入4種不同氣體。 四通道控制 精度0.02% 、數(shù)字顯示、自動控制 |
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河南鴻爐機械有限公司是一家專業(yè)從事電爐產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的高新技術企業(yè)。我公司產(chǎn)品具有升溫快、節(jié)能、溫控精度高、保溫性能好、微電腦控制、可編程全自動升溫降溫、爐壁溫度接近室溫、使用壽命長等特點;產(chǎn)品型號達到上百種,并可根據(jù)客戶需求定制各式爐型,以滿足高校、科研院所和工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、氣氛還原和質(zhì)量檢測之用,廣泛應用于陶瓷、化工、電子、冶金、新材料開發(fā)、機械、耐火材料、建材、特種材料等領域的實驗和生產(chǎn),受到廣大新老用戶的一致好評。
主要產(chǎn)品有箱式馬弗爐、管式電阻爐、真空爐、氣氛爐、坩堝爐、CVD系統(tǒng)、牙科爐、升降爐、軌道爐、臺車爐、退火爐、升降爐、微波燒結爐、烤瓷爐等標準及非標實驗電爐和工業(yè)電爐,并提供各類電爐配件、加熱元件及耐火材料。
鴻爐鄭重承諾:每臺電爐出廠前均經(jīng)過嚴格的質(zhì)量檢測以及高溫測試,為客戶提供放心可靠的產(chǎn)品!??!
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