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產(chǎn)品型號: KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S
主要用途: 該設(shè)備可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應(yīng)用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、高端裝飾等領(lǐng)域。
KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統(tǒng),由KJ-T1200單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成。混氣管式PECVD系統(tǒng)是為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng),環(huán)境溫度在100-300℃,但反應(yīng)氣體在輝光放電等離子體中能受激分解、離解和離化,從而大大提高了反應(yīng)物的活性,這些具有反應(yīng)活性的中性物質(zhì)很容易被吸附到較次溫度的基本表面上,發(fā)生非平衡的化學(xué)反應(yīng)沉積生成薄膜,因此這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)。
產(chǎn)品優(yōu)勢
PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等優(yōu)點
等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜
操作簡便,控溫準(zhǔn)確、可靠、安全多段可編程控制,可以簡化復(fù)雜的試驗過程,真正實現(xiàn)自動控制和運行
性能可靠:整體型復(fù)合轉(zhuǎn)子,強(qiáng)度高、性能穩(wěn)定; 潔凈無油:采用脂潤滑精密陶瓷軸承,無油蒸汽污染
有效的提高了法蘭的氣氛性,法蘭上裝有多種接頭,可接電阻真空計、真空波紋管并能做成容易撤卸的鉸鏈?zhǔn)健?/p>
管式爐系統(tǒng) | |
爐管尺寸 |
直徑60mm(更多規(guī)格可按照客戶要求定制) |
加熱區(qū)長度 |
440mm(更多規(guī)格可按照客戶要求定制) |
工作溫度 |
≤1100℃ |
最高溫度 |
1200℃ |
加熱元件 | 電阻絲 |
爐膛材質(zhì) | 采用高純氧化鋁纖維爐膛材料,不掉粉、材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡,抗熱漲冷縮能力強(qiáng) |
控溫方式 |
智能化30段可編程控制(用戶可選配液晶觸摸屏顯示) |
真空系統(tǒng) | |
高真空分子泵組,高真空復(fù)合真空計
采用KF25系列波紋管和真空擋板閥連接 |
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質(zhì)子流量計 |
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高精度質(zhì)量流量計可準(zhǔn)確的控制氣體流量 出氣真空壓力表,內(nèi)置氣體混氣系統(tǒng), 不銹鋼針閥計管道,標(biāo)準(zhǔn)雙卡套接頭 |
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射頻電源系統(tǒng) |
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輸出功率 |
50-500W可調(diào)±1% |
售后服務(wù) | 12個月質(zhì)保、終身保修 |
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河南鴻爐機(jī)械有限公司是一家專業(yè)從事電爐產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的高新技術(shù)企業(yè)。我公司產(chǎn)品具有升溫快、節(jié)能、溫控精度高、保溫性能好、微電腦控制、可編程全自動升溫降溫、爐壁溫度接近室溫、使用壽命長等特點;產(chǎn)品型號達(dá)到上百種,并可根據(jù)客戶需求定制各式爐型,以滿足高校、科研院所和工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、氣氛還原和質(zhì)量檢測之用,廣泛應(yīng)用于陶瓷、化工、電子、冶金、新材料開發(fā)、機(jī)械、耐火材料、建材、特種材料等領(lǐng)域的實驗和生產(chǎn),受到廣大新老用戶的一致好評。
主要產(chǎn)品有箱式馬弗爐、管式電阻爐、真空爐、氣氛爐、坩堝爐、CVD系統(tǒng)、牙科爐、升降爐、軌道爐、臺車爐、退火爐、升降爐、微波燒結(jié)爐、烤瓷爐等標(biāo)準(zhǔn)及非標(biāo)實驗電爐和工業(yè)電爐,并提供各類電爐配件、加熱元件及耐火材料。
鴻爐鄭重承諾:每臺電爐出廠前均經(jīng)過嚴(yán)格的質(zhì)量檢測以及高溫測試,為客戶提供放心可靠的產(chǎn)品?。?!
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